K&F Concept Nano-X MRC UV filtras, skirtas Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI (KF01.2703)

Ar žinojote, kad jūsų „Fujifilm X100“ serijos objektyvo priekinis žiedas gali būti pakeistas itin plonu apsauginiu filtru, kuris ne tik saugo, bet ir pagerina nuotraukų kokybę? Susipažinkite su K&F Concept Nano-X MRC UV filtru – specialiai jūsų fotoaparatui pritaikytu sprendimu, kuris neprideda svorio ir nekeičia kompaktiškos išvaizdos.

Kodėl verta rinktis šį filtrą?

Šis filtras – tai ne tik barjeras dulkėms, drėgmei ir įbrėžimams. Dėl 28 sluoksnių Nano-X dangos jis praleidžia daugiau nei 99,6 % šviesos, sumažina atspindžius ir pagerina kontrastą. O kad būtų dar geriau – vandens ir riebalų atstumiamoji danga leidžia lengvai nuvalyti nešvarumus, tad visada turėsite švarų objektyvą.

Kam šis filtras tinka?

• „Fujifilm X100“
• „Fujifilm X100S“
• „Fujifilm X100F“
• „Fujifilm X100V“
• „Fujifilm X100VI“

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: UV filtras
• Dangos technologija: Nano-X daugiasluoksnė atspindžių mažinimo danga (MRC)
• Optinis stiklas: aukštos raiškos optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Tvirtinimas: tiesioginis užsukimas (pakeičia originalų priekinį žiedą)
• Šviesos pralaidumas: >99,6 %
• Atstumia vandenį ir riebalus: taip
• Atsparus įbrėžimams: taip
• Anti-refleksinis: taip
• UV sugertis: taip
• Rėmelio profilis: itin plonas
• Dangos sluoksniai: 28
• Spalva: juoda

Kaip naudoti?

Tiesiog atsukite originalų objektyvo priekinį žiedą ir užsukite šį filtrą – jis puikiai priglunda ir nereikalauja jokių papildomų įrankių. Po to galite drąsiai fotografuoti bet kokiomis sąlygomis, žinodami, kad jūsų objektyvas yra apsaugotas.

Patarimas: Nors filtras apsaugo nuo dulkių ir drėgmės, visada naudokite gaubtą, jei norite dar labiau sumažinti akinimą. O valymui užtenka mikropluošto šluostės – danga atstumia nešvarumus, tad nereikia stipriai trinti.