K&F Concept CPL NANO-X MRC 52mm apskritas poliarizacinis filtras

Ar kada nors fotografavote gražų peizažą, bet nuotraukoje dangus atrodė išblukęs, o vanduo – tarsi veidrodis? Su šiuo filtru tie rūpesčiai dingsta. K&F Concept CPL NANO-X MRC 52mm apskritas poliarizacinis filtras padės jūsų nuotraukoms atgauti sodrias spalvas ir pašalinti nepageidaujamus atspindžius.

Kodėl verta rinktis šį filtrą?

Šis filtras – tarsi stebuklingi akiniai nuo saulės jūsų objektyvui. Jis efektyviai sumažina atspindžius nuo vandens, stiklo ar lapų, o dangų padaro gilesnį ir sodresnį. Dėl itin plono rėmelio (vos 3,3 mm) nėra pavojaus, kad nuotraukos kampuose atsiras tamsių zonų – net ir naudojant plačiakampius objektyvus. O 28 sluoksnių danga apsaugo nuo vandens, riebalų ir įbrėžimų, tad filtru galite drąsiai naudotis bet kokiomis sąlygomis.

Kam šis filtras tinka?

• Peizažų fotografams, norintiems išryškinti dangų ir augmeniją
• Kelionių ir gamtos mylėtojams, siekiantiems gyvų, kontrastingų vaizdų
• Portretų kūrėjams, norintiems sumažinti atspindžius ant odos ar drabužių
• Produktų fotografams, kuriems reikia pašalinti blizgesį nuo blizgių paviršių

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: apskritas poliarizacinis (CPL)
• Filtro skersmuo: 52 mm
• Stiklo medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Dangos sluoksniai: 28 sluoksnių danga
• Dangos technologija: Nano-X danga
• Rėmelio tipas: itin plonas
• Rėmelio storis: 3,3 mm
• Atsparumas vandeniui: taip
• Atsparumas riebalams: taip
• Atsparumas įbrėžimams: taip
• Antirefleksinė danga: taip
• Poliarizacijos laipsnis: iki 99,6 %
• Sriegimas: dvigubas sriegis (galima sukrauti kelis filtrus)

Patarimai naudojimui

Kad išgautumėte geriausią efektą, užsukite filtrą ant objektyvo (52 mm sriegis) ir sukite jį, kol pamatysite norimą poliarizacijos rezultatą. Valykite tik mikropluošto šluoste, kad nepažeistumėte dangos. Šis filtras puikiai tinka tiek pradedantiesiems, tiek pažengusiems fotografams.